而依照光刻机的品种，今朝能够分为EUV、DUV、KrF、G线/I线等。而DUV又分为浸湿式光刻机，干式光刻机。

　　但EUV光刻机环球只要ASML一家可以或许出产，以是能够说，环球的进步前辈芯片财产，都被ASML卡住了颈项，只须ASML不卖EUV光刻机，不哪一家厂商可以或许投入7nm工艺以上全部。

　　此中佳能是押注NIL纳米压印手艺，即是像芯片的电路图刻到一个章子上，再将这个章子盖印一般盖到硅晶圆上，构成芯片。

　　不外今朝这类手艺，还处于初期阶段，但佳能透露表现到2025年要投入5nm，让大师绕开EUV光刻机，以是行不可，得看2025年。

　　而即日，又一个种手艺又被浩繁的厂商说起，迥殊是intel还透露表现有了少少冲破，已用这类手艺，搞定了18nm工艺，接上去无望投入到5nm，绕开EUV光刻机。

　　这类手艺是甚么呢，叫做DSA自组建手艺，它并非新工具，现实上10多年前就提议来了。道理即是使用少少化学方剂，侵蚀硅晶圆，让硅晶圆在掌握下，间接天生电路图。

　　不外初期，由于这类方式缺点太大，出产的图案可控性不强，以是一向被大师轻忽了，特别当EUV手艺进去以后，大师都遴选了EUV光刻，很罕有厂商去研讨DSA了。

　　但此刻摩尔定律将近生效了，光刻手艺仿佛已没法支持摩尔定律的成长，以是像NIL、DSA手艺，才再度鼓起，良多人感觉，使用NIL博鱼官方app、DSA手艺，或容许以给摩尔定律续命。

　　而英特尔经过研发，已兑现了一种DSA加强的EUV多图案化方式，终究金属间距为18nm，电气机能妥当，因而DSA手艺，仿佛又被大师正视了起来。

　　固然，从18nm投入5nm，大概要好久，乃至永久也进不了，然则良多企业仍是透露表现有决定信念，感觉DSA必定可以或许搞定EUV搞定的工作，乃至还会做到更好。

　　不外值得一提的，今朝从DSA手艺，或NIL手艺，和EUV手艺来看，华夏都是处于绝对落伍的，这些手艺的专利，首要仍是把握在外洋厂商的手中，EUV手艺是ASML，NIL手艺是佳能，而DSA手艺首要是美欧厂商，以是华夏还得加油。