器件建筑的焦点过程，首要工艺过程包罗前处置、涂胶、软烘烤、瞄准暴光、PEB、显影、硬烘烤和查验。光刻工艺经过上述过程将拥有纤细多少图形构造的光刻胶留在衬底上，再经过刻蚀等工艺将该构造变动到衬底上。
光刻胶行动感化光刻结果焦点因素之一，是电子财产的关头原料。光刻胶由溶剂、光激发剂和成膜树脂三种首要成份构成，是一种拥有光化学敏锐性的夹杂液体。其使用光化学反映，经暴光、显影等光刻工艺，将所需求的细微图形从掩模版变动到待加工基片上，是用于细微加工手艺的关头性电子化学品。
按照显影结果差别，光刻胶可分正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶的暴光部门溶于显影剂，显影时构成的图形与掩膜版上的图形沟通。
负性光刻胶的暴光部门不用融于显影剂，显影时构成的图形与掩膜版相同。二者的出产工艺过程根本分歧。
正性胶已成为支流半导体光刻胶。负性光刻胶最先利用在半导体光刻工艺中，但因为显影时易变形和收缩，1970s今后正性光刻胶成为支流。今朝，在半导体光刻胶范畴，g线、i线、ArF线均以正胶为主。
按照利用范畴的差别，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶。此中，PCB光刻胶的手艺壁垒最低，半导体光刻胶的手艺门坎最高。PCB光刻胶首要包罗干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨。LCD范畴光刻胶首要包罗黑白光刻胶和玄色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶。
半导体光刻胶包罗通俗宽普光刻胶、g线nm）、i线nm）及最早进的EUV（《13.5nm）光刻胶，级越往上其极致分辩率越高，统一壁积的硅晶圆布线密度越大，机能越好。
光刻胶处于电子财产链焦点关键，是半导体国产化的关头一环。光刻胶在电子财产链至关重要，其下游是邃密化工行业，下流是半导体、印制电路板、液晶显现器等
建筑行业。此中，半导体是光刻胶手艺门坎最高的下流范畴。在半导体邃密加工从微米级、亚微米级、深亚微米级投入到纳米级程度的过程当中，光刻胶起着至关重要的感化，其出产建筑也是以成为半导体财产链自立化的关头一环。
光刻胶市集不变发展，华夏领跑环球。按照Cision数据，2019年，环球团体光刻胶市集范围为91亿美圆，而到2022年则无望到达105亿美圆，年均复合增速5%。此中，行动环球最大电子
出入口国，华夏占有了光刻胶最大的市集份额。同时，随同华夏在半导体、面板和PCB等电子元器件的市集感化力逐年晋升，海内光刻胶市集范围疾速伸张，按照SEMI数据，2015*020韶华夏光刻胶市集范围由100亿元增加至176亿元，年均复合增速12.0%。
海内缺少半导体光刻胶供给才能，国产替换空间广漠。分品类来看，在环球光刻胶市集，半导体、LCD、PCB类光刻胶各自据有27%、24%和24%的份额。此中半导体光刻胶占比最高，也是手艺难度最高、发展性最佳的细分市集。
不外，今朝我国半导体光刻胶和面板光刻胶建筑才能仍较弱，华夏光刻胶企业首要出产手艺程度较低的PCB用光刻胶，占团体出产构造中的94%。我邦本土的半导体光刻胶及面板光刻胶供给才能非常局限，首要依靠入口，是以其国产替换空间广漠。
青出于蓝。1839年，第一套“光刻零碎”重铬酸盐明胶降生。尔后颠末百年成长，光刻胶手艺开端能干，1950s，德国Keverye公司制成重氮萘醌-酚醛树脂印刷原料，暴光光源可采取g线s，IBM利用自研的KrF光刻胶冲破了KrF光刻手艺。随即，东京应化于1995年研收回KrF正性光刻胶并竣工大范围贸易化，是以敏捷占有市集，这标记着光刻胶正式投入日本厂商的霸主期间。此光华刻手艺仍在连续前进，ArF、EUV光刻胶前后问世。2000年，JSR的ArF光刻胶成为半导体工艺开辟同盟
的下一代半导体0.13μm工艺的抗蚀剂。2001，东京应化也推出了本人的ArF光刻胶产物。2002年，东芝开辟出分辩率22nm的低份子EUV光刻胶。JSR在2011年与SEMATECH结合开辟出用于15nm工艺的化学夸大型EUV光刻胶。
今朝日本企业在光刻胶范畴仍连结独霸职位。光刻胶的焦点手艺被日本和西欧企业所把握，而且因为光刻胶的特别本质，市集潜伏投入者很难对制品停止逆向剖析，是以光刻胶财产显现日本企业寡头独霸格式。天下首要光刻胶企业有日本JSR、东京应化、信越化学，美国陶氏化学、韩国东进世美等。华夏光刻胶财产范围仍较小，但已有浩繁厂商踊跃结构，首要包罗晶瑞电材、北京科华、华懋
光刻胶财产链公有四大壁垒，从下游至末端划分是原原料壁垒、配方壁垒、装备壁垒和认证壁垒。此中，原原料壁垒和配方壁垒对光刻胶厂商从质料分解和差同化研发才能提议较高要求。装备壁垒首要是研发中配套利用的，以光刻机为和焦点的半导体装备，因为进步前辈半导体装备常常价钱不菲，是以这也组成光刻胶开辟的壁垒之一。
另外，光刻胶虽是半导体建筑的焦点原料，但其本钱占团体建筑过程中的比率其实不高，是以下流厂商调换志愿低，再加上光刻胶自己长达数年的认证周期，这就组成了下流认证壁垒。
过来，受限于多项壁垒压抑，海内光刻胶厂商只可在夹缝中保存，产物根本会合在较低真个PCB光刻胶。而此刻，国产光刻胶正处于替换窗口期，行业壁垒有慢慢被翻开的趋向。
起首，海内光刻胶厂商颠末多年堆集，已储蓄了更富厚的光刻胶出产手艺，头部厂商诸如北京科华、晶瑞电材等已在KrF、ArF等高端品类中崭露锋芒，是以配方壁垒和原原料壁垒，在海内手艺储蓄靠近冲破奇点的地位上，无望被减弱上冲破。
同时，本钱市集对光刻胶的投资升温也大幅拉动了光刻胶企业的融资才能。装备壁垒的素质是资本壁垒，在资本富足的环境下，海内厂商正踊跃购买进步前辈
等高端装备，以婚配进步前辈制程产物研发。另外，国产化须要加强了下流晶圆厂对海内光刻胶供给商的认证志愿，再加上信越化学断供等不测事务，海内光刻胶已投入客户认证加快期。
从市集占近来看，半导体、PCB与LCD三类光刻胶市集份额靠近。此中，半导体行动发展能源最强、成长空间最广、手艺含量最高的下流市集，该当是国产光刻胶冲破最焦点的标的目的。同时，PCB和LCD光刻胶国产化也仍有不小空间，是以，本章迁就光刻胶三大下流利用品类停止分类叙述，以梳理差别种别光刻胶的投资逻辑。
的最小特点尺寸，是大范围集成电路建筑的过程当中最关键的工艺。光刻和刻蚀工艺占芯片建筑工夫的40%⑸0%，占建筑本钱的30%。在图形变动过程当中，普通要对硅片停止十屡次光刻。光刻胶需颠末硅片洗濯、预烘、涂胶、前烘、瞄准、暴光、后烘、显影、刻蚀等关键，将掩膜版上的图形变动到衬底上，构成与掩膜版对应的多少图形。
跟着半导体系体例程由微米级、亚微米级、深亚微米级投入到纳米级阶段，配套光刻胶的感光波长也由紫外宽谱向g线nm）→i线nm）的标的目的变动，以到达集成电路更高的聚集度，进而满意市集对半导体袖珍化、功效百般化的的须要。
ArF光刻胶占有半导体光刻胶市集四成分额，是今朝最关键的半导体光刻胶之一。ArF光刻胶首要用于ArF准份子激光光源的DUV光刻机的光刻工艺傍边，感光波长为193nm，可用于130nm⒁nm芯片工艺制程（此中干式首要用于130nm⑹5nm工艺，淹没式首要用于65nm⒁nm工艺。），部门晶圆厂乃至可能利用ArF光源做到7nm制程。以中芯中国支出构造为例，在1Q21支出中66%的支出来自ArF光刻胶对应制程，其主要水平看来一斑。
今朝，KrF光刻胶和g/i线%份额，均是关键的能干制程光刻胶。KrF光刻胶首要用于KrF激光光源光刻工艺，对应工艺制程在250nm⒂0nm；而g/i线光刻胶首要用于
汞灯光源的光刻工艺，对应350nm及以上工艺制程。另外，用于极紫外光刻的EUV光刻胶是今朝利用制程最早进的光刻胶产物，首要用于7nm及三个方面进步前辈制程的光刻工艺，该产物今朝仍处于利用初期，其市集份额较小且难以统计，不外将来无望发展为光刻胶最焦点的细分市集之一。
日本厂商在半导体光刻胶范畴占有万万主宰职位。从团体市集来看，日本企业在光刻胶市集占有七成以上份额，此中JSR股份有限公司竣工了光刻胶产物全笼盖，是环球光刻胶龙头厂商。其余首要厂商包罗日本的东京应化、富士电子、信越化学和住友化学，美国的陶氏化学和韩国的东进世美肯等。
从细分市集来看，日本厂商险些独霸进步前辈制程市集。在g/i线光刻胶范畴，除日系厂商外，尚有韩国东进世美肯和美国杜邦各自占有12%和18%份额。而在KrF范畴，首要非日系厂商仅剩美国杜邦，占有11%份额。再到ArF光刻胶市集，美国杜邦份额也唯一4%，这一细分市集险些被日系厂商独霸。至于今朝工艺制程最早进的EUV光刻胶，则更是被JSR和信越化学两家日系厂独霸。
海内半导体光刻胶企业首要包罗晶瑞电材（姑苏瑞红）、彤程新材（北京科华）、上海新阳、华懋科技（徐州博康）和南京大学光电等。海内光刻胶产物首要会合在g/i线市集，而KrF和ArF光刻胶仍处于手艺堆集和市集开辟期。
ArF光刻胶方面，五家厂商均已购买了ArF光刻机用于产物研发，今朝正处于手艺开辟或客户考证中。2021年7月初，南京大学光电自立研发的ArF光刻胶经过客户认证，成为海内经过产物考证的第一只国产ArF光刻胶。将来跟着海内光刻胶企业不停在KrF范畴拓宽客户，并在ArF市集告竣手艺结构，国产光刻胶无望竣工周全冲破。
光刻工艺一样也是液晶面板建筑的焦点工艺，经过镀膜、洗濯、光刻胶涂覆、暴光、显影、蚀刻等工序，将掩膜版上的图形变动到薄膜上，构成与掩膜板对应的多少图形，进而制得TFT电极与黑白滤光片。面板光刻胶在此中饰演了关键的脚色，是LCD财产链下游相当关键的焦点原料。
面板光刻胶首要分为TFT-LCD光刻胶、黑白光刻胶和玄色光刻胶、和触摸屏光刻胶。三类面板光刻胶被利用在LCD建筑进程的差别工序中。TFT-LCD光刻胶用于加工液晶面板前段Artreat制程中的细微图形电极；黑白光刻胶和玄色光刻胶用于建筑LCD中的黑白滤光片；触摸屏光刻胶用于建造触摸电极。
随同显现财产变动，海内面板光刻胶市集范围疾速扩大。从2009年开端，面板财产链逐步向华夏变动。颠末十年的疾速扩大，华夏面板行业青出于蓝。今朝环球前三大液晶面板供给商京东边、华星
、惠科光电均为华夏厂商，华夏已主宰液晶显现财产。而跟着我国面板产能的不停扩大，面板光刻胶行动焦点原料，须要量也在不停增添。按照财产讯息网的数据，2015*020年，华夏面板光刻胶市集范围由3.07亿美圆发展为10.2亿美圆，年均复合增速27.14%。虽然海内市集对LCD光刻胶的须要量不停增加，但我国面板光刻胶出产才能仍吃紧缺乏。
目后面板光刻胶的出产被日韩厂商独霸，以须要至多的黑白光刻胶为例，按照前瞻财产研讨院数据，东京应化、LG化学、东瀛油墨、住友化学、三菱化学、奇美等日本、韩国和华夏企业占有了90%以上的市集份额，我邦本土供给才能较弱。
在LCD光刻胶庞大须要空间的布景下，海内厂商也在踊跃停止LCD光刻胶的国产化。海内面板光刻胶的首要厂商有北旭电子、晶瑞电材、容大感光、雅克科技、欣奕华等。今朝，北旭电子合用于4MASK工艺的Halftalk光刻胶竣工量产，公司出产的高分辩率光刻胶也已经过客户发端认证，面板用正性光刻机竣工全线笼盖。
飞凯原料TFT-LCD光刻胶已构成不变发卖，面板用光刻胶营业的大幅晋升，2021Q1营收同比增加53%。博砚电子的玄色光刻胶已告竣开辟和中试事情，团体手艺到达中国进步前辈。雅克科技购买LG化学黑白光刻胶奇迹部的出产机械装备、存货、常识产权等，把握了黑白光刻胶和正性光刻胶的制程工艺。
PCB光刻胶是印制大白板关键的下游原原料之一，占PCB建筑本钱的3%⑸%。可分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶与光成像阻焊油墨。干膜光刻胶是由液态光刻胶在涂布机上和***净度的前提下平均涂布在载体tomography膜上，经烘干、冷却后覆上PE膜，收卷而成的薄膜型光刻胶。湿膜光刻胶的
湿膜光刻胶的机能优于干膜，今朝恰逢加快替换干膜光刻胶。湿膜拥有精度更高，价钱更昂贵的上风，可以或许满意PCB高机能的要求。但同时操为难度更高，废液会净化情况。干膜拥有附丽性强、操纵简洁，易于加工、情况友爱的特性，在处置高密度电路上更有上风。但致使电路缺点的大概性更大。
光成像阻焊油墨是在PCB的建筑过程当中起阻焊感化的油墨，可以或许避免焊锡搭线酿成的短路，可包管印刷电路板在建造、输送、储存、使历时的平安性、机电能稳定性。
凭仗我国在管事力和资本等方面的上风，21世纪从此，PCB财产开端向海内变动，海内厂商慢慢把握了PCB下游关头原原料的焦点手艺，有用下降了本钱，大幅晋升了产能。据中商财产研讨院估量，2019年环球印制电路板产值约637亿美圆，我国PCB市集范围到达329.4亿美圆，占环球市集的份额跨越50%，是环球最大的PCB出产国。估计在2021年产值能到达370.5亿美圆。同时，2000*019年间，日本、美国和欧洲产能所占份额从70%降至7%。
我国今朝已成为天下PCB财产链的主宰者，而行动PCB的关头原原料之一，PCB光刻胶的须要也在不停增添。按照财产讯息网的预估，2020年我国PCB光刻胶的市集范围为85亿元，跟着PCB向更高的精度成长，市集对PCB光刻胶的质料将会有更高的要求。
固然我国具有环球近一半的PCB产能，但PCB光刻胶市集依然这天本主宰。按照前瞻财产研讨院的测算，长兴化学、日本旭化成、日今日立化成三家企业就占有了干膜光刻胶超80%的市集份额。按照财产讯息网的数据，在光成像阻焊油墨方面，仅日本一家企业太阳油墨就占有了60%的天下市集份额。
按照中商财产研讨院数据，我国PCB光刻胶国产化率约50%。因为PCB光刻胶的手艺壁垒远低于LCD光刻机和半导体光刻胶，是以在三类光刻胶中，PCB光刻胶的国产替换历程最快。华夏内资企业已在海内PCB市集中占有50%以上的市集份额。在我国PCB光刻胶出产企业中，外乡企业占六成。
海内市集研发历程加快。今朝，容大感光、广信原料、东边原料、北京力拓达等外资企业已占有海内50%摆布的湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨市集份额。海内企业中，飞凯原料、容大感光、广信原料等已有响应PCB光刻胶产物投产。广信原料公司年产8000吨感光原料为PCB油墨系列产物已出产爬坡。
容大感光的车载PCB用阻焊油墨，已告成利用于多个着名品牌的汽车上，今朝年发卖量在100吨以上，后续会加大研发进入，并踊跃停止市集推行。
在光刻胶财产最焦点的半导体光刻胶范畴，今朝国产替换趋向正愈演愈烈，除下流厂商从供给链平安角度搀扶国产光刻胶和国度战略撑持等身分外，尚有国表里晶圆厂扩产潮带来的须要发作和认证窗口期。再加上环球光刻胶巨子信越化学受地动感化而增产，断供了部门中小晶圆厂，进一步加重了半导体光刻胶产物欠缺，也为海内光刻胶企业供给了贵重的替换窗口期。
通信、新动力汽车、高机能计较、线上办事和主动化等对半导体日趋增加的微弱须要，天下各泰半导体建筑商将在将来两年划分新建19座和10座高容量晶圆厂。华夏和华夏在将来两年将划分成立8座晶圆厂，美国新建6座。这29座晶圆建成后将本周新增260万片/月的晶圆产能，无望拉动环球半导体光刻胶市集范围一连高速发展。
海内晶圆厂扶植炎热停止，光刻胶投入认证窗口期。跟着中美商业辩论从此，海内对芯片行业的正视水平愈来愈高，华夏
商正加快扩产。比方长江保存和紫光国微的在建产线万片的新丰收能。中芯中国今朝有三条产线万片/月的在建产线万片的计划产线、待投产后每个月将各多开释20万片新产能。停止2021年8月，海内首要晶圆厂方案裁减的产能约468.48万片/月（折8英寸），仅2021年估计本周新增的产能就有约75.58万片/月（折8英寸）。华夏的晶圆厂产能扩大将大幅拉动国产光刻胶的市集须要。同时，相较于不变产线，光刻胶产物在新建产线的客户导入难度更低，是以国产光刻胶企业无望随同下流晶圆厂扶植，而一齐投入行业成长黄金期间。
日当地动致使信越化学光刻胶增产，断供缺口打建国产替换窗口期。2021年2月13日，日本福岛东部海疆产生7.3级地动，日本光刻胶大厂信越化学在本地的KrF产线遇到粉碎停息出产。是以其向华夏多家晶圆厂部分供货KrF光刻胶，并向小范围晶圆厂告诉截至供货KrF光刻胶。
因为日本信越化学占有天下22%摆布的KrF光刻胶市集份额。是以，信越增产将使得KrF光刻胶供给生活较大的缺口，对国产企业而言是贵重的替换时机。
不测事务无望加快国产光刻胶考证。国产光刻胶履历多年成长已构成了比较富厚的手艺堆集，今朝多家海内厂商的KrF、ArF光刻胶已处于产物考证中，如北京科华、上海新阳和徐州博康的ArF干法光刻胶和晶瑞电材的KrF光刻胶等等。而这次信越不测断供无疑加重了光刻胶欠缺，也间接鞭策了国产光刻胶考证加快。
大基金加码光刻胶厂商彰显决定信念。2021年7月，南京大学光电控股子公司宁波南京大学广电拟经过增资扩股体例引入计谋投资者大基金二期。大基金二期将以1.83亿元认购南京大学光电本周新增备案本钱0.67亿元。大基金二期入股宁波南京大学广电，不但可以或许裁减企业的资本气力，同时也将进一步加强企业与海内半导体装备、芯片建筑头部企业的共同，进而加速光刻胶营业的成长，改动海内高端光刻胶受制于人的近况。
今朝，在半导体光刻胶范畴，海内厂商在手艺气力、市集感化力、份额占比等方面仍落伍于日韩跨越企业。不外，在晶圆厂扩产潮和半导体国产化热火朝天的趋向下，华夏光刻胶厂商迎来了绝佳的成长时机期。今朝已有部门跨越企业，如晶瑞电材、北京科华等，开端崭露锋芒，在KrF、ArF等高端光刻胶范畴竣工从零到一的冲破。华夏光刻胶财产无望步入疾速发展期。
晶瑞电材是一家微电子原料的平台型高新手艺企业，其环绕泛半导体原料和新动力原料两大标的目的，首要产物包罗光刻胶及配套原料、超净高纯试剂、
原料和根底化工原料等，普遍利用于半导体、新动力、根底化工等行业。子公司姑苏瑞红深耕光刻胶近30年，产物类别富厚。晶瑞电材子公司姑苏瑞红1993年开端光刻胶出产博鱼官方app，承当并告竣了国度02专项“i线光刻胶产物开辟及财产化”名目。公司近30年努力于光刻胶产物的研发和出产，光刻胶产物类别笼盖高中低分辩率的I线、G线紫外正性光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶、厚膜光刻胶等类别，利用行业涵盖
半导体光刻胶方面，公司g线、i线产物已竣工量产，客户笼盖海内一流厂商。姑苏瑞红告竣了多款g线、i线光刻胶产物手艺开辟事情，并竣工发卖。获得中芯中国、扬杰科技、福顺微电子等海内企业的供货定单，并在士兰微、吉林华微、深圳朴直等着名半导体厂停止尝试。今朝公司正不停伸张g/i线光刻胶的市集据有率。
同时，公司连续推动KrF/ArF深紫内线光刻胶科研攻关。今朝，KrF（248nm深紫外）光刻胶已告竣中试，产物分辩率到达了0.25～0.13µm的手艺要求，建俨然中试树模线Gi型光刻机装备，ArF高端光刻胶研发事情正式煽动，旨在研发满意90*8nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶。
LCD光刻胶方面，公司2016年与日本三菱化学股份有限公司在姑苏创造了LCD用黑白光刻胶配合研讨所，为三菱化学的黑白光刻胶在海内的
公司连续进入研发资本，引进高端手艺人材。2020年公司研发进入为3，384.70万元，占开门做生意的门店支出的3.31%，研发职员增加至96人，占职工比率的16.6%。停止2020年末，公司及控股子公司已获受权专利70项，此中发现专利43项，适用新式专利27项，此中光刻胶相干的已获受权发现专利17项。
公司正视高端手艺人材的引进，近两天约请陈韦帆师长教师担负光刻胶奇迹部总司理职务。陈韦帆师长教师深耕半导体行业近20年，曾前后履职力晶、日月光、友达光电、美光（）、TOK等着名半导体企业，特别在高端光刻胶产物的手艺研发、市集开辟及评判实行上具有富厚的经历。这次陈韦帆师长教师的参加将会鼎力进步公司在高端光刻胶的研发及市集推行的速率。
跟着我国芯片建筑行业国产替换历程加快，2020年公司焦点产物光刻胶及配套原料的发卖获得汗青最佳成就，整年竣工发卖1.79亿元，同比增加16.98%。与此同时，光刻胶营业在公司开门做生意的门店支出中的占比也获得昭著晋升，2020年到达17.52%。
北京科华是上市公司彤程新材的控股子公司，其56.56%的股权由彤程新材持有。北京科华是一家静心于光刻胶及配套试剂的高新手艺企业，集进步前辈光刻胶研发、出产和发卖为一体。
自2004年景立从此，承当了多项国度级光刻胶核心研发及财产假名目。公司产物序列完备，笼盖KrF（248nm）、I-distinction、G-distinction、紫外宽谱光刻胶。今朝，集成电路用高分辩G线正胶、I线nm深紫外光刻胶已竣工产线扶植和量产出货。其产物已普遍利用于集成电路、发光
、分立器件、进步前辈封装等范畴。公司凭仗进步前辈的手艺程度和不变的产物格料，已成为行业顶尖客户的不变互助火伴。公司首要客户包罗中芯中国、上海华力微电子、长江保存、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电等。随同产物线拓展及客户导入，公司支出范围逐年晋升。2016*020年，公司营收由5613万元增至8929万元，年均复合增速12%。2021年上半年，随同国产替换加快和行业景气下行，公司支出范围投入高速发展期，竣工营收5647.83万元，同比增加46.74%。另外，公司踊跃加大研发进入，助力高端光刻胶产物开辟。2018*020年的研发付出划分为934万、2018万和3780万元，占支出比率约四成。
北京科华手艺团队研发气力薄弱，开创人陈昕率领的中国化团队处置光刻胶行业近三十年，具有多名光刻胶老手，具有原原料分解、配方和相干根底评判才能。同时公司剖析和利用尝试装备平台比较完整。公司具有分辩率到达0.11um的ASMLPAS5500/850扫描式暴光机、Npicture步进式暴光机、
LACT8涂胶显影一体机和HitaenergyS9220CDSEM等支流装备。完整的撑持产物研发和出厂查验的剖析和利用尝试平台保险了公司在KrF、G/I线光刻胶产物及关头质料的顺遂停顿。
公司产物线完备且富厚，笼盖KrF（248nm）、G/I线（含宽谱）等支流品类，首要包罗KrF光刻胶DK1080、DK2000、DK3000系列；g-idistinction光刻胶KMPC5000、KMPC7000、KMPC8000、KMPEP3100系列和KMPEP3200A系列；Lift-soured工艺利用的负胶KMPE3000系列；用于分立器件的BN、BP系列等。为保险出产，科华扶植了高级光刻胶出产基地，拥有百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂出产线、G/I线吨/年）和正胶配套试剂出产线nm光刻胶出产线等多条光刻胶产线。
同时公司ArF光刻胶树脂也已投入尝试研发阶段。2021年8月，公司利用自筹资本6.98亿元投资扶植“ArF高端光刻胶研发平台扶植名目”，首要研讨ArF湿法光刻胶产业化出产手艺开辟，经过成立尺度化的出产及掌握过程，晋升高端光刻胶的质料掌握程度，竣工193nm湿法光刻胶量产出产。名目估计于2023年底扶植告竣。
上海新阳是一家半导体用电子化学品及配套装备建筑商。在半导体封装原料范畴，公司的功效性化学原料销量与市占率位居天下第一。在半导体建筑原料范畴，公司的芯片铜互连电镀液及增添剂、蚀刻后洗濯液已竣工大范围财产化。另外，公司踊跃结构高端半导体光刻胶，在ArF干法、KrF厚膜胶和I线光刻胶范畴均有庞大冲破。
公司正视研发进入，研发用度及研发职员数目逐年增添。停止2020年末，公司研发团队公有161人，占公司职工总额的26.35%。在半导体营业手艺开辟团队中，95%职员为本科以上学力，20%为硕士研讨生以上学力，近30%的手艺职员有10年以下行业经历。公司2020年研发进入总数8，027.46万元，占整年开门做生意的门店支出的比重为11.57%，此中半导体营业研发进入占半导体营业的比重为20.60%。
停止2020年末，公司已请求专利275项，此中发现专利139项。集成电路建筑用高端光刻胶名目是2020年内公司研发进入的核心名目之一。
公司稳步推动光刻胶名目，部门产物已获得优良的线外尝试数据。公司今朝恰逢开辟的集成电路建筑用高端光刻胶产物包罗逻辑和
芯片建筑用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶，保存芯片建筑用的KrF厚膜光刻胶，和底部抗曲射膜（BARC）等配套原料。公司集成电路建筑用ArF干法、KrF厚膜等中试光刻胶产物已获得优良的客户端尝试后果，此中，KrF（248nm）厚膜光刻胶产物已经过客户认证，并告成获得第一笔定单。另外，子公司芯刻微展开的ArF湿法光刻胶名目研发已引进了焦点手艺老手团队，为ArF湿法光刻胶名目的开辟供给了手艺保险。
光刻机装备络续到位，有助于加快推动公司光刻胶手艺财产化。公司采办的用于I线光刻胶研发的Npicture-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Npicture*05C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML⒁00型光刻机，和用于ArF淹没式光刻胶研发的ASMLXT1900Gi型光刻机已全数到厂。公司光刻机装备的络续到位运行，为公司集成电路建筑用全财产链光刻胶产物的开辟供给了需要保险。
另外，公司于2020年定增募资8.15亿元进入集成电路建筑用高端光刻胶研发、财产假名目，首要开辟集成电路建筑中ArF干法工艺利用的光刻胶和面向3polymerND（闪存，属于非易失性保存器）台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产物。公司估计KrF厚膜光刻胶2022年可竣工不变量产发卖，ArF（干式）光刻胶在2023年开端不变量产发卖。
真名目研发告成后，公司将把握包罗质料纯化工艺、配方工艺和出产工艺在内的、拥有完备常识产权的ArF干法光刻胶和KrF厚膜光刻胶的范围化出产手艺，可竣工两大类光刻胶产物及配套试剂的量产供货。
华懋科技是一家静心于汽车平安范畴的零碎零件供给商，产物线笼盖汽车平安气囊布、平安气囊袋和平安带等主动平安零碎零件，海内市集据有率位居前哨。公司在夯实汽车板块营业的同时，经过介入创造财产基金的情势，慢慢结构更具发展性和手艺壁垒的半导体光刻胶行业，延长公司财产链条。
子公司增资徐州博康，切入光刻胶范畴。华懋科技控股子公司东阳凯阳2020年向徐州博康增资3000万元，并向徐州博康实控人傅志伟供给5.5亿元的可转股乞贷和2.2亿元的投资款。华懋科技经过此举算计持有徐州博康26.7%股权，进而竣工了对半导体关头原料光刻胶范畴的结构。
徐州博康是海内光刻胶范畴跨越企业，具有光刻胶原材推测制品的完备财产链结构。徐州博康创建于2010年，是海内跨越的电子化学品高新手艺企业，处置光刻原料范畴中的中高端化学品的研发、出产、发卖。公司光刻胶供给链竣工了从单体、光刻胶公用树脂、光酸剂及终产物光刻胶的完备结构，其单体产物客户涵盖
、JSR等半导体原料龙头厂商。在研发气力方面，徐州博康具有专门的研发团队和进步前辈的研发装备，并与海内多个集成电路专门平台展开互助。徐州博康在松江漕河泾科技绿洲设有5000平方米的中国尺度研发中间，具有研发团队200余人，此中博士和硕士占比50%以上。公司已设置装备摆设KrFNpictureS20四、I⑼I12，ACT8road、日立CDSEM等进步前辈光刻检测装备，和理化检测装备如ICP-MS、H
、GC、IR等。同时，公司193nm光刻胶单体研发名目获得了国度“02专项”子问题立项。另外，公司与海内多个集成电路专门平台停止互助，包罗中科院微电子所、复旦大学微电子学院等平台或企业。
徐州博康光刻胶产物类别富厚，可笼盖多种利用范畴。公司今朝已告成开辟出40余种中高端光刻胶产物系列，包罗KrF/ArF光刻胶单体、KrF/ArF光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶及GHI超厚负胶等产物类别，笼盖IC集成电路建筑、IC后段封装、化合物半导体、分立器件、电子束等多种利用范畴。
徐州博康经过新建出产基地，进一步晋升光刻胶产能。徐州博康今朝恰逢新建出产基地，该名目完整建成投产后将拥丰年产1100吨光刻原料及10000吨电子级溶剂的总产能，可竣工年产值20亿元，无望成为华夏今朝产物最齐备、手艺程度最高的光刻胶原料研发建筑基地之一。
南京大学光电是一家专门处置高纯电子原料研发、出产和发卖的高新手艺企业，经过承当国度庞大手艺攻关名目并竣工财产化，公司已从多个层面冲破了所行家业内的海外持久独霸，先驱体、电子特气、光刻胶三大关头半导体原料的结构根本构成。
公司光刻胶手艺研发永远对峙完整自立化线路，公司恰逢自立研发和财产化的ArF光刻胶（包罗干式及淹没式）可能到达90nm⒁nm的集成电路工艺节点。2017及2018年，公司划分取得国度02专项“高分辩率光刻胶与进步前辈封装光刻胶产物关头手艺研发名目”和“ArF光刻胶产物的开辟和财产假名目”的正式立项。
为此，公司组装了以高端光刻胶专门人材为焦点的自力研发团队，建俨然约1，500平方米的研发中间和百进级光刻胶中试出产线，开辟出多款树脂、光敏剂、单体，立异其实不停优化提纯工艺，研讨出193nm光刻胶的配方，产物研发停顿和功效获得业界老手的承认。
ArF光刻胶财产假名目停顿顺遂，产物再次经过客户认证。公司今朝已告竣2条光刻胶出产线扶植，首要进步前辈光刻装备，如ASML淹没式光刻机等已告竣安装并进入利用。控股子公司宁波南京大学光电自立研发的ArF光刻胶产物继2020年12月在一家保存芯片建筑企业的50nm闪存平台上经过认证后，即日又在逻辑芯片建筑企业55nm手艺节点的产物上获得了认证冲破，成为海内首个经过下旅客户考证的国产ArF光刻胶产物。
在持久的成长过程当中，公司构成了比较完整的研发安排系统，经过逐年加大科研力度，手艺气力获得不停加强。2020年，公司研发进入总数为2.32亿元，占开门做生意的门店支出的比率为38.98%。研发进入同比增加247.54%，首要是“ArF光刻胶产物的开辟和财产化”名目增添进入而至。同时，公司研发职员数目逐年增添，停止2020年末，公司具有研发职员136人，占公司总人数的比率为19%摆布。科研力度的加大，使得公司手艺气力及自立立异才能获得不停加强。停止2020年末，公司及首要子公司自立开辟的专利总计79项，此中发现专利21项，适用新式专利58项。
公司2021年拟经过定增募资1.5亿元用于ArF光刻胶手艺开辟及财产假名目。名目方案到2021年末，公司将到达年产25吨193nm（ArF干式和淹没式）光刻胶产物的出产范围，产物机能满意90nm⒁nm集成电路建筑的要求。同时，方案成立海内第一个专门用于ArF光刻胶产物开辟的检测评价平台，满意进步前辈光刻胶产物和手艺开辟的须要。公司欲经过这次定增名目竣工高端光刻胶出产的完整国产化和量产零的冲破，晋升我国高端光刻胶这一范畴的自立程度。
